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XOI复合衬底键合设备

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WBX-S系列是面向SOI、POI、SiCOI等先进复合衬底工艺打造的全自动晶圆键合设备,支持4-12英寸晶圆的大气及低真空直接键合。设备采用高稳定性平台架构与模块化设计,可实现高效率、高一致性的晶圆贴合工艺,适用于高端CPU/GPU、MEMS传感器、5G射频、光电子及功率器件等领域。

设备具备稳定的对准控制能力与良好的工艺兼容性,可满足先进复合衬底在键合精度、颗粒控制与产能方面的需求,为新一代高性能半导体器件提供核心工艺支撑。
  • 适用范围:SOI、POI、SiCOI等先进复合衬底的生产 
  • 键合方式:大气/高真空直接键合 
  • 键合真空度:1E-5mbar(MAX) 
  • 对准方式:边缘对准 
  • 对准精度:±100‌μm(X/Y),±0.1°(θ) 
  • 空洞测量:多头红外线扫描技术

规格参数

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